Multiwell 셀 컬쳐 플레이트, VWR®

VWR multiwell 셀 컬쳐 플레이트는 표면 처리를 선택할 수 있습니다.

• 균일한 웰(well) 볼륨으로 동일한 배양 면적 보장
• 줄무늬가 없고 매끈한 웰 표면으로 배양 면적 최대화
• 웰을 잘 덮어줄 수 있게 뚜껑에 균일한 링이 포함되어 있어 증발을 줄여줌
• 단일 위치의 뚜껑으로 오염 및 취급 부주의 위험 감소
• 영숫자 코드가 있는 웰(well)로 각 웰의 처리를 쉽게 식별 가능
• 모든 일반 기기 및 자동화와 사용하기 적합
• 전자선 조사로 멸균 처리
• DNase,RNase free. 비발열성

세포 부착 표면 증가 : 이 고도의 친수성 표면은 기존 세포 배양 표면에 비해 상당한 이점을 제공합니다. 표면 처리로 인해 cell spreading 및 attachment을 개선할 수 있습니다. 또한 표면 처리는 cell phenotype, 스트레스가 많은 배양 조건 및 부착을 위해 추가 생물학적 코딩이 필요하기 때문에 잘 부착되지 않는 세포에 적합합니다.

TC-treated: 이 플레이트는 일관된 셀의 부착과 배양을 위해 진공 가스 플라즈마 처리되었습니다.

Non treated: 세포 부착이 없어야 할 용도에 적합한 셀 및 티슈 컬쳐 플레이트.

배양 면적 = 웰 당 cm².

 : ISO 13485:2003, ISO 9001:2008

 : 벗겨서 여는 종이/플라스틱 블리스터 팩에 개별포장됨.