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Silicium dioxyde ≥99.995% (base métaux), cible de pulvérisation, Ø 76.2 mm (3.0 in), Epaisseur: 6.35 mm (0.250 in)
Silicium dioxyde ≥99.995% (base métaux), cible de pulvérisation, Ø 76.2 mm (3.0 in), Epaisseur: 6.35 mm (0.250 in)
N° de catalogue 41099.KS
Numéro CAS:  
Silicium dioxyde ≥99.995% (base métaux), cible de pulvérisation, Ø 76.2 mm (3.0 in), Epaisseur: 6.35 mm (0.250 in)
N° de catalogue 41099.KS
Numéro CAS:  

Spécifications

  • Cdt:
    1
  • Seq:
    0001
  • Environmentally Preferable:

Spécifications

À propos de cet article

Synonymes: Silicon(IV) oxide, Silicium dioxide, Silicium (IV) oxide
Numéro CAS:7631-86-9
 :
Formule:SiO₂
Numéro MDL:MFCD00011232
 :60.08 g/mol
Index Merck:14,08493
Point d'ébullition:2230 °C (1013 hPa)
Point de fusion:1719 °C
Densité:2.2 g/cm³ (20 °C)
Température de stockage:Température ambiante
EINECS:231-545-4
 :14808-60-7