Deze chemie-vacuümsystemen zijn geschikt voor verschillende toepassingen voor het verwijderen of aanzuigen van gassen en dampen in chemische of fysicalaboratoria, als alternatief voor waterstraalpompen en schoepenpompen. Compact en gebruiksvriendelijk. Lange levensduur, membraan en ventiel eenvoudig te wisselen. Olievrije vacuüm.

• Hoge chemische bestendigheid, delen in contact met media zijn uit PTFE
• Hoog aanzuigvermogen ook bij lage aanzuigdruk
• Standaard met gasbalast voor gebruik met condensaten
• Solventherwinning met emissiecondensator tot 100%
• Eenvoudige manuele regeling

MD 4C NT:
Three-stage chemistry design diaphragm pumps are an excellent solution for continuous, oil-free pumping of corrosive gases and vapours and meet even challenging requirements. The three-stage design provides the advantageous combination of high pumping speed and very low ultimate vacuum. All parts of the MD 4C NT in contact with pumped media are made of chemically resistant fluoroplastics. Well proven PTFE sandwich diaphragms provide increased reliability and extended operating life. Due to the gas ballast valve and its very good ultimate vacuum (even with gas ballast) the MD 4C NT is also suitable for pumping condensable vapours of high boiling solvents. The NT-series features further improved performance data, easy service and superior vapour tolerance.

Modell MD 4C NT + AK +EK
Bestaande uit een chemie-membraanpomp MD 4C NT, pompenhouder, afscheider aanzuigzijde (AK) als bescherming tegen partikels en vloeistoffen, en een separate emissiecondensator (EK) voor solventherwinning en voor bescherming van  het milieu

Model MD 4C NT + AK SYNCHRO + EK
Dit pompsysteem is geschikt om twee vacuümsystemen synchroon te gebruiken met een vacuümpomp. Bestaande uit een chemie-membraanpomp MD 4C, pompenhouder, afscheider aanzuigzijde (AK) als bescherming tegen partikels en vloeistoffen, en een separate emissiecondensator (EK) voor solventherwinning en voor bescherming van het milieu. Twee manueel regelbare ventielen en terugslagkleppen om de twee systemen af te scheiden.

Model MD 4CRL NT:
For applications requiring an especially high leak tightness of the pump, we recommend the MD 4CRL NT. The three-stage construction provides the advantageous combination of high pumping speed and very low ultimate vacuum. All major parts of the MD 4CRL NT in contact with pumped media are made of chemically resistant fluoroplastics or a special, highly corrosion-resistant stainless steel. Well-proven PTFE sandwich diaphragms provide increased reliability and extended operating life. Every single pump is tested for an integral leakage rate of 0,001 mbar l/s.

Model MD 4C NT + 2AK:
This chemistry vacuum system has a wide range of applications like evacuation, evaporation and pumping of gases and vapours in chemical, biological and pharmaceutical laboratories that do not require condensation of solvent vapours at the outlet. This system is well proven for high vacuum requirements with high boiling solvents. Typical applications are vacuum concentrators, rotary evaporators and drying ovens. The separator at the inlet (AK), made of glass with a protective coating, retains particles and liquid droplets. The catchpot at the outlet collects condensate, avoids condensate backflow towards the pump and reinforces the whisper-quiet operation of the pump.
MD 4C NT + AK + EK-Peltronic:
This system is ideal for high vacuum requirements with high boiling solvents. Typical applications are rotary evaporators and drying ovens. The separator at the inlet (AK), made of glass with a protective coating, retains particles and liquid droplets. The included emission Peltronic® emission condenser performs condensation of solvent vapours without external coolant such as water or dry ice. It works electronically and uses Peltier elements as cooling system. All wetted parts are highly chemically resistant.