Filterpatronen

Filtercartridges worden gebruikt voor membraanfiltratie van plasmafracties, vaccins, MAB, diagnostica, gezuiverde eiwitoplossingen, biologische vloeistoffen en oplossingen die conserveermiddelen bevatten. De filters zijn vervaardigd uit PTFE en CTFE en de interne ontwerpen van inline-filtercartridges zorgen voor een gelijkmatige verdeling van het oplosmiddel over het filteroppervlak. Filtercartridges zijn compact en eenvoudig te vervangen, met een verscheidenheid aan porositeitsopties om aan specifieke filtratiesystemen te voldoen. Deze filters zijn ontworpen voor grootschalige industriële voorfiltratie en het vasthouden van deeltjes uit water.

VWR®, Puranity PU, Cartridges en Accessoires

Supplier: VWR Collection

Filterpatroon, VWR®, Vervangende UV-lamp voor PU15 UV & UV/UF models

Expand 18 Items

Guardian™ PS UC Liquid Filter

Supplier: ENTEGRIS

Advanced, ultraclean (UC) filtration for critical dilute cleaning applications.

Expand 1 Items

Cartridges for bowl-style systems, Milli-Q and Milli-RO

Supplier: Merck

Replacement cartridges for Milli-Q and Milli-RO 3- and 4-bowl style systems are available individually or in convenient ultrapure cartridge kits.

Expand 10 Items

Patronen

Supplier: Merck

Puur- en ultrapuur-watersysteem, Milli-Q®, Quantum EX-ultrazuiveringpatroon zonder Millipak-eindfilter

Expand 26 Items

Cartridge for Ultrapure water systems, Simplicity®

Supplier: Merck

Puur- en ultrapuur-watersysteem, Type: SimPak2 purification pack. Feed water nature : deionised

Expand 5 Items

Filterpatroon, Ultipor® GF Plus

Supplier: Cytiva (Formerly Pall Lab)

Pall Ultipor® GF Plus-filterpatronen zijn gemaakt met glasvezelmedia met een hoge leegte voor een langere levensduur van het filter. De patronen hebben een geplooide elementconstructie met een hoog oppervlak, ontworpen om te passen in filterbehuizingen in hygiënische stijl.

Expand 2 Items

Cartridges for Rios™ Essential

Supplier: Merck

Reverse osmosis system, Progard 1, pretreatment pack, short, filters large particle

Expand 9 Items

Cartridges for water purification systems, Elix® 20/35/70/100, Millipore®

Supplier: Merck

Filterpatroon, Progard, S1 Pack and vent filter for Type 3

Expand 9 Items

Cartridges for water purification system Direct-Q® 3

Supplier: Merck

Filterpatroon, Filter, 0,22 µm Millipak® Express

Expand 4 Items

Patronen

Supplier: Merck

Filter cartridge, DI-PAK-zuiveringspakket, groot (3,2 l hars), voor Milli-DI™-systeem

Expand 2 Items

Cartridges voor RiOs-DI™ 3

Supplier: Merck

Filterpatroon, SmartPak™ zuiveringspakket voor het RiOs-DI™-systeem

Expand 1 Items

Ultrapuur watersystemen, Synergy Smart

Supplier: Merck

Puur- en ultrapuur-watersysteem, SynergyPak™ II (Milli-DI of zuiver DI-voedingswater)

Expand 3 Items

Disposable filters, Optimizer® DEV and DI

Supplier: ENTEGRIS

These point-of-use filters meet small to mid-volume photochemical filtration needs for positive developer and DI water applications. Both Optimizer® DEV filters (for developer applications) and Optimizer® DI filters (for DI water applications) require no pre-wetting, so the filters function immediately after installation. The design also limits the handling of hazardous chemicals during the installation and promotes a healthier workplace. Do not use either filter with aromatic hydrocarbons.

Expand 45 Items

Cartridge filters, Microgard™ UPE and UPX

Supplier: ENTEGRIS

Microgard UPE/UPX filters do not require prewetting with solvent-based photochemicals. All PE construction lowers metallic and ionic contamination that can leach from filters that are manufactured with materials such as PP and nylon.

Expand 24 Items

Cartridge filters, Impact® 2 V2

Supplier: ENTEGRIS

Superior retention performance for ultra-clean, point-of-use filtration of photoresist and photochemical solvents.

Expand 21 Items

Cartridge and disposable filters, Intercept®

Supplier: ENTEGRIS

These filters provide superior filtration for critical dilute, aqueous and low neutral pH cleaning applications at advanced technology nodes. The clean, dual capture membrane improves process performance and reduces on-wafer defects. In addition to sieving particle capture which is always active, the non sieving retention mechanisms are also active and strongest in conditions where pH is <3 and no surfactant is present.